広場(牢獄 IV)
作品概要
広場(牢獄 IV)
ピラネージ、ジョヴァンニ・バッティスタ (1720-1778)
1758-60年頃(1749-50年初版)
エッチング、エングレーヴィング、サルファー・ティントまたはオープン・バイト、掻き落とし、インク擦り付け、厚手の簀の目紙
75.0×51.9 cm (紙) / 55.3×41.7 cm (版)
所蔵館のウェブサイトで見る
国立西洋美術館広場(牢獄 IV)
ピラネージ、ジョヴァンニ・バッティスタ (1720-1778)
1758-60年頃(1749-50年初版)
エッチング、エングレーヴィング、サルファー・ティントまたはオープン・バイト、掻き落とし、インク擦り付け、厚手の簀の目紙
75.0×51.9 cm (紙) / 55.3×41.7 cm (版)
所蔵館のウェブサイトで見る
国立西洋美術館文化庁 〒100-8959 東京都千代田区霞が関3丁目2番2号 電話番号:03(5253)4111(代表)
共同運営NII Powered by GETA (C) The Agency for Cultural Affairs